DRAM内存厂商2007年因扩张过快导致供过于求,今年四大DRAM厂均将降低资本支出,转以提升制程,增加产出为主,制程微缩并可达到降低成本之效。DRAM厂今年位成长率将自去年100%降至50%-80%不等,力晶、南科增产动作相对积极,华亚、茂德则放慢扩产速度。
南科今年资本支出将由去年的470亿元降至400亿元,用于扩充自有12英寸厂产能及调整70纳米制程,预期今年位成长率可由去年的53%增加到78%到80%,同时大幅提升1Gb颗粒产品比重,南科目前1Gb产品比重约25%,预计第二季全部投片都将转成1Gb。
华亚科预估在去年位成长率达112%之后,今年位成长率可望下降到50%,华亚科今年资本支出由去年的440亿元降至300亿元,全数用作制程微缩,短期无新增产能规划。华亚科目前70纳米投片量约占总产能的20%,预计第三季将旗下两座12英寸厂总月产能12万片,全数转换至70纳米投产;除了产出量快速增加,且70纳米制程可较90纳米降低30%-35%的成本。
华亚科也将从本季起以70纳米制程生产下一世代的1Gb DDRI-II芯片,同时计划在下半年导入更先进的58纳米制程试产。
力晶去年资本支出达634亿元,今年资本支出将大幅缩减至351亿元,减幅逼近45%;将主要用在建造第四及第五座12英寸晶圆厂(P4、P5)。技术上,今年第一季将有九成产能以70纳米制程投片,预计农历年后将开始把制程技术推进至65纳米制程;上半年1Gb产出比重将达90%,预期下半年可望达100%。力晶预估今年位成长率为65%至70%,产出增加主要来自于瑞晶。
茂德去年位成长率较06年成长约85%,去年资本支出18.4亿美元。茂德今年资本支出大幅降为6亿美元,预期今年位成长率逾50%。
茂德原预定今年资本支出8亿美元,其中6亿美元用作扩增中科Fab 4的产能,2亿美元用于转换制程,不过,茂德与南韩大厂Hynix(海力士)在70纳米以下制程的合作生变,促使茂德自行投入研发1Gb DDR2,开创国内DRAM厂自行研发1Gb的首例,在70纳米的微缩制程则可望在第三季送样,约明年第1季至第2季量产。
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